信息技术系统的快速发展对半导体芯片的集成化程度提出了更高的要求，而满足这种要求则需要有纳米级的设计精度、极高纯度的材料以及高度成型控制技术。东曹利用多年在冶金、金属有机物、有机化合物分子设计及有机合成等方面的技术积累，为先进信息技术系统的发展提供材料支持。

       溅射靶材代表了东曹在冶金业领域所取得的成果。溅射靶材涉及高纯度铬、铝以及半导体、磁性记录介质、记录头以及薄膜电阻等生产所必需的其它金属。未来用于生产半导体的薄膜将依赖于化学汽相淀积（CVD）技术。基于其在分子设计和薄膜成型方面的专业技术，东曹致力于开发具有卓越性能的钌、铱复合物等化学汽相淀积材料。

       东曹生产的反应槽和反应皿等石英配件及基片在半导体制造方面起着重要的作用。为提高半导体产品产量，石英制品必须具有高纯度、卓越的耐热性和耐久性，且易于加工。我们的研发人员正在改进我们的石英精炼、成型、制作、粉末成型及等离子喷涂技术，以稳步开发出一系列世界一流的石英制品。

       平板显示器（FPD）行业正在经历着一场革命，成为信息社会的轴心。我们的分子设计和有机合成技术为有机电致发光（EL）显示器材料的发展做出了重大贡献，这种显示器目前在市场上正迅速得到普及。此外，经过不懈努力，我们在长期困扰行业的高效电子电洞传输材料的合成技术方面取得了突破。这些都仅仅是东曹为IT产业做出的诸多贡献的一个缩影。